近日，荷兰光刻机巨头阿斯麦发布第三季度财报，中国相关销售额环比暴涨109%。中国市场在其设备销售中的占比从14%升至23%。在美国持续收紧对华出口管制的背景下，这一反差令不少媒体感到意外。 众所周知，光刻机是半导体制造的核心设备，利用光线将电路图案印制在硅片上，芯片能够达到的线宽水平直接由该设备决定。全球范围内仅有这家企业能够制造高端光刻机，而最顶尖的极紫外（EUV）光刻机，更是只有它可以量产。 事实上从一开始，中国就无法采购EUV光刻机。荷兰政府从未批准EUV对华出口，2024年相关管制进一步收紧。因此中国能够采购的是DUV机型，用于扩充成熟制程产能，也可借助多重曝光工艺，支撑部分先进逻辑芯片与存储芯片的生产。 因为无法采购最先进设备，中国需要付出明显代价：同一涂层需要多次重复曝光，带来成本上升、良率下降、缺陷率升高等问题。换言之，这一轮采购热潮，购买的并不是冲刺最先进制程的入场券，而是成熟芯片产能所需设备，以及尚未被禁令限制的存量机型。 因此不必被109%这个数字误导。去年第三季度，中国市场占ASML设备销售额的42%，随后一路下滑至14%，在今年二季度触底，三季度才反弹至23%。也就是说，这109%是触底后的反弹，并非中国相关需求凭空爆发。 如果对比去年同期，中国的市场份额反而缩水近一半。就连ASML自身也预测，2026年全年中国市场大约占其总销售额的20%，和当前预期基本持平，谈不上爆发式增长。 不少人会产生疑问，为何本季度出现集中采购？答案藏在美国相关法案之中。今年4月提出的MATCH法案，目标就是将浸没式DUV光刻机也纳入对华禁售范围。更严苛的是，法案还计划禁止为已交付安装的设备提供维护服务。 这意味着，一旦该法案正式落地，受影响的不只是新机销售，国内晶圆厂已在使用的设备后续能否正常运维也会成为难题。法案还要求荷兰、日本在150天内对齐出口管制标准，否则美国将单方面启用“外国直接产品规则”实施限制。 对很多中国客户而言，这就像一趟即将关闭的末班车。三季度这一轮大规模采购，很大程度上是赶在管制落地前抓紧引进设备。 荷兰方面本身也对MATCH法案持反对态度，认为这类全面禁售会适得其反，客观上加速中国本土技术自主研发进程。这并非客套表态，而是关乎实实在在的经济利益。要知道，中国市场曾占到ASML去年营收的三分之一，强行切断供应无异于自断财路。 在荷兰企业的考量里，只要中国客户还在使用ASML设备，国内推进国产替代的动力就会相对有限。反过来思考，这恰好揭示了美国政策内在的矛盾：越是剥夺现成可用的外部方案，就越是倒逼本土完整供应链加速成型。 看透本质就能发现，背后是两股力量在博弈：一方面国内晶圆厂抓紧窗口期采购、储备设备；另一方面外部管制持续加码，不断压缩现存的贸易空间。 国内成熟制程存在庞大的扩产刚需，集中采购是企业面对高度不确定外部环境下的无奈选择。不要将采购量上升误读为已经取得胜利，在半导体这条赛道上，中国还有很长的路要走。 特别